真空镀是一种 在真空条件下，通过物理或化学方法在材料表面沉积一层薄膜的技术。它主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。这些方法都是利用在真空环境中，通过蒸馏或溅射等方式在材料表面沉积各种金属和非金属薄膜，从而得到非常薄的表面镀层。真空镀的主要特点包括速度快、附着力好，但价格较高，且能进行操作的金属类型较少。它通常用于高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。